Die Rasterelektronenmikroskopie (REM) ist eine leistungsfähige Methode zur Untersuchung von Halbleitern, Chips und anderen Geräten auf mikroskopischer Ebene.
REM arbeitet mit einem Elektronenstrahl, der auf die Probe gerichtet wird. Wenn der Elektronenstrahl auf die Probe trifft, wird eine Rückstreustrahlung erzeugt, die von einem Detektor aufgefangen wird. Aus der Analyse dieser Rückstreustrahlung lassen sich Informationen über die Struktur, Oberfläche und Zusammensetzung des Materials gewinnen.
Bei ChipCheck wird die Rasterelektronenmikroskopie zur Untersuchung von Wafern, Chips und anderen Halbleiterbauteilen eingesetzt. Mit dem REM lassen sich Materialdefekte wie Einschlüsse, Risse und Verunreinigungen aufspüren, die die Leistung der Bauteile beeinträchtigen können. Darüber hinaus ermöglicht das REM die Untersuchung von Oberflächenstrukturen und die Identifizierung von Verunreinigungen oder die Bewertung von Bruchstrukturen.
Mikrofotografien (Materialografie) ermöglichen Bewertungen im Inneren von Bauteilen. Zum Beispiel
- Geometrie der Lotfüllung
- Benetzungswinkel zwischen der Lotfüllung und den Oberflächen der Fügepartner
- Dicke der intermetallischen Zonen
- Zustand der intermetallischen Zone
- Intermetallische Phasen im Lotgefüge
- Defekte, Lunker, Risse
- oder die Struktur der Lotfüllung (dendritische Erstarrung von Gefügebestandteilen, Korngröße).
Ihr Experte Rasterelektronenmikroskopie:
Florian Kronpass
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